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N7 +或專門為Apple華為!台積電:大多數7nm客戶將直接轉向6nm
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N7 +或專門為Apple華為!台積電:大多數7nm客戶將直接轉向6nm
5月2日,在本週的季度收益電話會議上,台積電首席執行官兼副董事長魏哲佳透露,其大多數7nm工藝客戶預計將轉向6nm工藝節點,6nm節點的使用和容量將迅速擴大。
根據Jiwei.com之前的報導,台積電於4月16日宣布推出6nm(N6)工藝技術,預計將於2020年第一季度投入試生產。
台積電錶示,6nm工藝技術將大大提升目前業界領先的7nm技術,幫助客戶在能耗和成本之間實現極具競爭力的優勢,而6nm工藝也採用7nm技術設計,從而加速客戶相關產品的推出。
據了解,台積電的6nm工藝將採用EUV光刻技術,為第二代7nm(N7 +)工藝增加了EUV光刻層,與N7技術相比,晶體管密度提高了18%。與N7完全兼容,可以輕鬆升級遷移並降低成本。相比之下,第二代7nm工藝是另一套設計規則。
因此,台積電第二代7nm工藝非常尷尬。雖然下一代Apple A系列處理器和華為麒麟將使用這個節點,但據魏哲佳介紹,其他使用第一代7nm工藝的老客戶可能會使用。將選擇跳過N7 +節點並直接升級到6nm工藝。
值得一提的是台積電的6nm只會在明年試制,據說台積電的5nm工藝已經過平滑,相比第一代7nm晶體管的密度增加45%,可帶來15%的性能提升或20降低功耗百分比。進入試生產階段,預計蘋果和華為將跳過6nm並直接選擇更強大的5nm工藝。